利用事例・加工事例

タイトル 空間光変調器用ドライバ回路
概要 IC作製技術を駆使してNMOSデバイスを作製
夏季実習でも簡易プロセスを習得可能
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支援機関 広島大学
技術分野・応用分野 ナノエレクトロニクス
プロセス分類 ドーピング、リソグラフィ・露光・描画装置、成膜・膜堆積、膜加工・エッチング
材料 アルミニウム（Al）、シリコン（Si）
利用課題番号
※利用報告書の閲覧はこちら		 F-13-RO-0025 F-13-RO-0026 F-13-RO-0027 F-13-RO-0028

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