利用事例・加工事例

タイトル 極端紫外線露光機の為の赤外線遮断フィルター
概要 Siウェハに作製された光学グリット。幅350nm,高さ5μm,直径90mm.
EUV光(λ=13.5nm)を78%透過し，赤外線(λ=10.6μm)を99.7%遮断することが可能な波長選択フィルター。
世界で初めて，EUVリソグラフィー光源のためのグリット型赤外線遮断フィルターの作製に成功。
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支援機関 東北大学
技術分野・応用分野 N&MEMS、ナノエレクトロニクス、フォトニクス
プロセス分類 リソグラフィ・露光・描画装置、成膜・膜堆積、膜加工・エッチング
材料 シリコン（Si）、モリブデン（Mo）
利用課題番号
※利用報告書の閲覧はこちら		 F-13-TU-0074、F-14-TU-0082

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